时隔55年，信越化学在日本建半导体材料新工厂。据日本经济新闻4月8日获悉，信越化学工业将在日本群马县建设半导体材料的新工厂。这是该公司56年来首次在日本国内新建生产基地。
信越化学的新工厂将于2026年竣工，生产在半导体晶圆上绘制电路的光刻工序使用的材料，如光刻胶(感光材料)和原版材料。将在群马县伊势崎市取得约15万平方米的业务用地，投资约830亿日元。这是继1970年鹿岛工厂以来首次在日本国内新建氯乙烯树脂工厂。
此外，据报道，三井化学也将在日本山口县的基地完善增产体制。
三井化学将扩建用于生产保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的山口县工厂。将投资50亿～90亿日元，于2025～2026年量产性能高于以往产品的产品。在利用光刻设备以激光照射半导体晶圆、绘制电路之际，Pellicle可防止原版产生损伤和灰尘附着。
