10月25日，科技部原副部长曹健林在“第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛”上透露，中国首套高端光刻机曝光系统，于本月在整机环境下通过验收测试。
据悉，IC制造高端光刻机被誉为“现代光学工业之花”，而物镜系统则是光刻机的核心部件，是光刻机技术难度的集中体现。早在2007年，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（简称：02专项），启动90nm节点曝光光学系统立项论证；2009年，该项目获批启动，其中，物镜系统和照明系统分别由两个研究所负责。
按照规划，该项目一期投入近6亿元，拟建立物镜超精密光学研发团队及研发平台。2016年9月，物镜系统完成交付；2017年4月，90nm节点 NA0.75 ArF照明系统成功交付；今年10月，该曝光光学系统在整机环境下通过验收测试。
曹健林表示，高端光刻机曝光光学系统的产业化准备已经就绪，长春国科精密光学技术有限公司早于2014年8月成立，该公司对超精密制造设备总投资约2亿元，扩产后将达5亿元。
