6月28日消息，韩国检方6月12日起诉一名三星前高层涉嫌窃取商业机密，意图在中国西安复制一座芯片厂。外媒近日取得完整起诉书报导，这名高层为崔珍奭（Choi Jinseog，音译），他利用三星承包商关系非法取得无尘室与工程图机密，意图协助鸿海建厂。
据路透取得长达18页的起诉书内容显示，崔珍奭旗下的新加坡顾问公司碁诺半导体（Jin Semiconductor）在2018年8月与鸿海签订初步咨询合约。
随后几个月内，崔珍奭从三星及其子公司挖走大批员工，并自三星两家承包商手中非法取得与建厂有关的机密信息，包括无尘室管理技术与三星中国厂的建造蓝图。
但鸿海一年后终止合约，且仅支付与计划相关的薪资。消息人士透露，据韩国检方掌握信息，鸿海原本同意斥资60亿美元建厂，每个月支付数百万美元给崔珍奭的公司。但起诉书并未透露鸿海取消合作的原因。韩国检方推估，三星因技术外泄而造成的损失超过2亿美元。
崔珍奭自5月底以来持续遭关押，他透过律师否认一切指控。律师表示，建造无尘室已有一套国际标准，并非三星独有。至于工厂蓝图从谷歌地图便可取得，专家一看便知建物内部构造。
现年65岁的崔珍奭曾在三星工作17年，负责研发DRAM芯片与晶圆制程技术。他于2001年离开三星，转往SK海力士担任科技长，服务时间超过八年，协助该公司由亏转盈。
起诉书并未指控鸿海犯下不法情事。鸿海与三星皆不愿针对进行中的调查多做评论。据了解，鸿海知道这项案件在韩国社会的各项揣测，公司不会对正在进行调查的案件进行评论。但鸿海坚持没有不法行为，绝对遵守事业所在地的法规。
起诉书指出，鸿海原先计划兴建一座20奈米芯片厂，每月产能估10万片。尽管此技术不如三星最新的12与14奈米，但韩国依然将此视为「国家核心科技」，未经批准或结盟合作关系不得输出。
