TFT-LCD制程介绍---来源 中华映管

TFT基板制程简图，供大家参考。此流程需重复5次，才能完成TFT基板。

●成膜：在玻璃基板上，铺上一层所需求材质的薄膜( PVD / CVD )。
●曝光：使用光罩在光阻上，显影出所需求的光阻图形。
●显影：留下上阶段光阻图形部分的光阻。
●蚀刻：在已经有光阻图形之基板上，蚀刻出所需求的图( Wet / Dry )。
面板工程( Cell Engineering )
●配向：将配向膜刷出沟槽状的痕迹，期使液晶分子能够循一定的倾斜角度排列，此角度即称为「预倾角」。
●框胶印刷：利用环氧树脂&压克力树脂提供CF侧基板和TFT侧基板结合应力，使后制程切裂时应力均衡及液晶注入时不致外泄。
●组立封着：将彩色滤光片与TFT玻璃基板结合。