冠石科技：光掩膜版项目计划2025年实现45nm的量产，2028年实现28nm的量产

7月4日消息，近日有投资者在互动平台向冠石科技询问有关宁波冠石光掩膜版制造项目的问题。

对此，冠石科技表示，公司管理层依托在半导体显示领域积累的优势资源，积极探索向半导体上游核心材料领域拓展延伸，通过与专业技术团队紧密交流，在对下游行业及市场前景做出谨慎研判的基础上，公司最终将业务拓展目标锁定在半导体光掩膜版领域。

公司的光掩膜版制造项目总建设期为5年，产品制程覆盖350-28nm（其中以45-28nm成熟制程为主），首批设备交付后分别预计将于2025年实现45纳米光掩膜版的量产，2028年实现28纳米光掩膜版的量产，全部达产后，年产半导体光掩膜版逾1.25万片。产品可广泛应用于高性能计算、人工智能、移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等众多产业涉及的集成电路半导体领域，能够满足多类晶圆设计、晶圆代工企业的采购需求，以及先进半导体芯片封装、半导体器件等产品的应用需求。

公司光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备，设备交付时间18-48个月不等，首批设备预计交期为2024年3季度。目前公司正在继续按照已有的建设工作计划，持续稳定的推进各项工作。