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《科创板日报》29日报道,三星电子周四宣布,将在本季度开始使用3GAE(早期3nm级栅极全能)工艺进行大规模生产,这也是首个使用环栅场效应晶体管(GAAFETs)的节点。“这是世界上首次大规模生产的GAA 3纳米工艺,将以此提高技术领先地位。”三星在一份报告中写道。